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采用High K技术 英特尔 45nm试产成功
Intel宣布以两种全新材料制作的45nm晶体管绝缘层 (insulating wall) 和开关闸极(switching gate)取得重大突破，首款45纳米处理器原型样品”Penryn”，己成功执行Windows Vista、Mac OS X、Windows XP和Linux操作系统以及各种应用程序，并预计于2007年下半年进行45纳米产品的
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